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High Purity Fused Silica Quartz Tank Uniform Wall HF resistent für Wafer Pickling Chemische Verdauung Laborreaktor
| Material | Silikon mit hoher Reinheit | Konstruktion | Integral verschmolzen oder verklebt |
|---|---|---|---|
| Oberfläche | Doppelseitig fein geschliffen, glatte Innenwand | Temperaturbeständigkeit | ≤1100 °C Dauerbetrieb |
| Chemische Beständigkeit | HF- und konzentrierte starke Säure-/Laugenbeständigkeit | ||
| Hervorheben | Quarzbehälter mit hoher Reinheit,Fusionssilikokwarzbehälter,Quarzbehälter für Wafer-Pickeln |
||
Hochreiner Quarzglastank
Dieser hochreine Quarzglastank zeichnet sich durch eine gleichmäßige Wandstärke, beidseitig fein geschliffene Oberflächen und eine integral verschmolzene oder verbundene Konstruktion aus. Mit einer kontinuierlichen Arbeitstemperatur von ≤ 1100 °C und einer überlegenen chemischen Beständigkeit gegen HF/starke Säuren liefert es zuverlässige Leistung beim Beizen von Halbleiterwafern, beim Hochtemperatur-Probenaufschluss, bei Reaktionen mit chemischen Reagenzien und bei der offenen Kalzinierung im Labor – und übertrifft damit Borosilikatglas-Alternativen deutlich.
Produktparameter
| Parameter | Spezifikation |
|---|---|
| Material | Hochreines Quarzglas |
| Konstruktion | Integral verschmolzen oder verklebt |
| Wandstärke | Uniform |
| Oberflächenbeschaffenheit | Doppelseitig fein geschliffen, glatte Innenwand |
| Arbeitstemperatur | ≤1100°C Dauerbetrieb |
| Chemische Beständigkeit | HF- und konzentrierte starke Säure-/Laugenbeständigkeit |
| Wärmeausdehnung | Niedrig, beständig gegen schnelles Erhitzen und Abkühlen |
| Reinheit | Hohe Reinheit, keine Schwermetallausfällung |
Hauptmerkmale
- HF- und starke Chemikalienbeständigkeit– Völlig beständig gegen Flusssäure und konzentrierte starke Säuren/Laugen, geeignet für längeres Eintauchen korrosiver Reagenzien, die Borosilikatglastanks zerstören würden.
- ≤1100 °C Dauerbetrieb– Behält die strukturelle Integrität bei anhaltend hohen Temperaturen für Aufschluss, Kalzinierung und chemische Hochtemperaturprozesse ohne Erweichung oder Verformung.
- Hohe Reinheit, keine Kontamination– 99,99 % reines Quarzglas ohne Schwermetallausfällung, wodurch eine Kreuzkontamination bei der Halbleiterwaferverarbeitung und hochreinen chemischen Anwendungen vermieden wird.
- Geringe Wärmeausdehnung– Ausgezeichnete Temperaturwechselbeständigkeit widersteht schnellen Aufheiz- und Abkühlzyklen ohne Rissbildung und ermöglicht so den wiederholten zyklischen Einsatz in anspruchsvollen Labor- und Industrieumgebungen.
- Glatte Innenwand– Präzise polierte Innenoberfläche für einfache Reinigung und minimale Rückstandsanhaftung, wodurch das Risiko einer Kreuzkontamination zwischen Chargen verringert wird.
Anwendungen
1. Nasses Säurebeizen
Säuretauchtank für Photovoltaik-, optische Glas- und Halbleiterwafer-Beiz- und Reinigungsprozesse mit voller HF- und Säurebeständigkeit, die einen zuverlässigen Langzeitbetrieb gewährleisten.
2. Hochtemperaturaufschluss
Probenaufschluss- und Verdampfungsbehälter für chemische Analysen, Umwelttests und Laboruntersuchungen, der anhaltender Erwärmung und korrosiven Aufschlussreagenzien standhält.
3. Chemische Kleinserienproduktion
Reaktions-, Reinigungs- und temporärer Lagertank für korrosive Reagenzien für chemische Tests im Pilotmaßstab, mit inerter Quarzkonstruktion, die unerwünschte Nebenreaktionen verhindert.
4. Laborsintern
Offener Kalzinierungsbehälter für Pulverrohstoffe in Labor-Elektroöfen mit hoher Temperaturstabilität und kontaminationsfreier Konstruktion für wiederholbare Versuchsergebnisse.
Vorteile gegenüber Borosilikatglas
Im Gegensatz zu Tanks aus Borosilikatglas, die durch HF angegriffen und bei hohen Temperaturen erweicht werden, bietet dieser Tank aus Quarzglas volle HF-Beständigkeit, dauerhaften Betrieb bei 1100 °C, hervorragende Temperaturwechselbeständigkeit für den zyklischen Einsatz und hohe Reinheit ohne Schwermetallausfällung – was ihn zur definitiven Wahl für die Verarbeitung von Halbleiterwafern, Hochtemperaturaufschluss und korrosive chemische Anwendungen macht.

