High Purity Fused Silica Quartz Tank Uniform Wall HF resistent für Wafer Pickling Chemische Verdauung Laborreaktor

Herkunftsort China
Modellnummer QTA-HP-CUSTOM
Preis negotiable
Zahlungsbedingungen T/T, L/C, Paypal, Western Union
Produktdetails
Material Silikon mit hoher Reinheit Konstruktion Integral verschmolzen oder verklebt
Oberfläche Doppelseitig fein geschliffen, glatte Innenwand Temperaturbeständigkeit ≤1100 °C Dauerbetrieb
Chemische Beständigkeit HF- und konzentrierte starke Säure-/Laugenbeständigkeit
Hervorheben

Quarzbehälter mit hoher Reinheit

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Fusionssilikokwarzbehälter

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Quarzbehälter für Wafer-Pickeln

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Produkt-Beschreibung

Hochreiner Quarzglastank

Dieser hochreine Quarzglastank zeichnet sich durch eine gleichmäßige Wandstärke, beidseitig fein geschliffene Oberflächen und eine integral verschmolzene oder verbundene Konstruktion aus. Mit einer kontinuierlichen Arbeitstemperatur von ≤ 1100 °C und einer überlegenen chemischen Beständigkeit gegen HF/starke Säuren liefert es zuverlässige Leistung beim Beizen von Halbleiterwafern, beim Hochtemperatur-Probenaufschluss, bei Reaktionen mit chemischen Reagenzien und bei der offenen Kalzinierung im Labor – und übertrifft damit Borosilikatglas-Alternativen deutlich.

Produktparameter

ParameterSpezifikation
MaterialHochreines Quarzglas
KonstruktionIntegral verschmolzen oder verklebt
WandstärkeUniform
OberflächenbeschaffenheitDoppelseitig fein geschliffen, glatte Innenwand
Arbeitstemperatur≤1100°C Dauerbetrieb
Chemische BeständigkeitHF- und konzentrierte starke Säure-/Laugenbeständigkeit
WärmeausdehnungNiedrig, beständig gegen schnelles Erhitzen und Abkühlen
ReinheitHohe Reinheit, keine Schwermetallausfällung

Hauptmerkmale

  • HF- und starke Chemikalienbeständigkeit– Völlig beständig gegen Flusssäure und konzentrierte starke Säuren/Laugen, geeignet für längeres Eintauchen korrosiver Reagenzien, die Borosilikatglastanks zerstören würden.
  • ≤1100 °C Dauerbetrieb– Behält die strukturelle Integrität bei anhaltend hohen Temperaturen für Aufschluss, Kalzinierung und chemische Hochtemperaturprozesse ohne Erweichung oder Verformung.
  • Hohe Reinheit, keine Kontamination– 99,99 % reines Quarzglas ohne Schwermetallausfällung, wodurch eine Kreuzkontamination bei der Halbleiterwaferverarbeitung und hochreinen chemischen Anwendungen vermieden wird.
  • Geringe Wärmeausdehnung– Ausgezeichnete Temperaturwechselbeständigkeit widersteht schnellen Aufheiz- und Abkühlzyklen ohne Rissbildung und ermöglicht so den wiederholten zyklischen Einsatz in anspruchsvollen Labor- und Industrieumgebungen.
  • Glatte Innenwand– Präzise polierte Innenoberfläche für einfache Reinigung und minimale Rückstandsanhaftung, wodurch das Risiko einer Kreuzkontamination zwischen Chargen verringert wird.

Anwendungen

1. Nasses Säurebeizen

Säuretauchtank für Photovoltaik-, optische Glas- und Halbleiterwafer-Beiz- und Reinigungsprozesse mit voller HF- und Säurebeständigkeit, die einen zuverlässigen Langzeitbetrieb gewährleisten.

2. Hochtemperaturaufschluss

Probenaufschluss- und Verdampfungsbehälter für chemische Analysen, Umwelttests und Laboruntersuchungen, der anhaltender Erwärmung und korrosiven Aufschlussreagenzien standhält.

3. Chemische Kleinserienproduktion

Reaktions-, Reinigungs- und temporärer Lagertank für korrosive Reagenzien für chemische Tests im Pilotmaßstab, mit inerter Quarzkonstruktion, die unerwünschte Nebenreaktionen verhindert.

4. Laborsintern

Offener Kalzinierungsbehälter für Pulverrohstoffe in Labor-Elektroöfen mit hoher Temperaturstabilität und kontaminationsfreier Konstruktion für wiederholbare Versuchsergebnisse.

Vorteile gegenüber Borosilikatglas

Im Gegensatz zu Tanks aus Borosilikatglas, die durch HF angegriffen und bei hohen Temperaturen erweicht werden, bietet dieser Tank aus Quarzglas volle HF-Beständigkeit, dauerhaften Betrieb bei 1100 °C, hervorragende Temperaturwechselbeständigkeit für den zyklischen Einsatz und hohe Reinheit ohne Schwermetallausfällung – was ihn zur definitiven Wahl für die Verarbeitung von Halbleiterwafern, Hochtemperaturaufschluss und korrosive chemische Anwendungen macht.