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36 x 32 x 580 mm hochreines Quarzinstrument, hitzebeständig, säure- und alkalibeständig, für die Labordestillationsreinigung
Produktdetails
| Material | Hochreines Quarzglas (SiO2 > 99,99 %) | Abmessungen | 36 mm x 32 mm x 580 mm |
|---|---|---|---|
| Maximale Betriebstemperatur | 1100°C | Chemische Beständigkeit | HF, starke Säuren und Laugen, organische Lösungsmittel |
| Thermoschockbeständigkeit | Ausgezeichnet, niedriger WAK 5,5 x 10^-7 /°C | Transmission | UV-sichtbarer Bereich |
| Reinheit | Keine Metallionenausfällung | Anwendung | Labordestillation, Feinchemikalienreinigung, Halbleitervorbehandlung, Umweltaufschluss |
| Hervorheben | 36x32x580mm Quarzinstrument,hochreines Quarzinstrument,Quarzinstrument zur chemischen Reinigung |
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Produkt-Beschreibung
Produktübersicht
DieQuarzinstrument mit hoher Reinheit(36 mm x 32 mm x 580 mm) ist ein vielseitiges Quarzglasgefäß, das für anspruchsvolle chemische, Halbleiter- und Umweltanwendungen entwickelt wurde.Sie bietet eine außergewöhnliche thermische Stabilität bis zu 1100 °C., hervorragende chemische Trägheit gegen HF und starke ätzende Medien und keine Niederschlagung von Metallionen
Wesentliche Merkmale
- Widerstandsfähigkeit bei hohen Temperaturen:Geeignet für die direkte Flamme und elektrische Heizung; unter extremen thermischen Bedingungen ohne Verformung strukturell erhalten
- Starke Säure- und Alkalibeständigkeit:Ausgezeichnete chemische Beständigkeit gegen Fluorwassersäure, konzentrierte Säuren, starke Alkalien und organische Lösungsmittel
- Hohe Reinheit ohne Niederschlag von Metall:SiO2 > 99,99% bei null Ionenlaugung, was eine Kontamination der Probe in sensiblen Analyse- und Reinigungsprozessen verhindert
- Ausgezeichnete Wärmeschlagfestigkeit:Niedriger thermischer Expansionskoeffizient verhindert beim schnellen Heiz-Kühl-Zyklus Rissungen, weit überlegen gegenüber Borosilikatglas
- Hohe Durchlässigkeit:Ausgezeichnete optische Klarheit im UV-sichtbaren Bereich für die visuelle Überwachung von Reaktionen und Prozessen
Anwendungen
| Industrie | Anwendung |
|---|---|
| Laborchemie | Hochtemperaturdestillations- und Rückflussreaktionsbehälter für HF und konzentrierte Säure/Alkali-Reagenzien unter direkter Flamme oder elektrischer Heizung;für die Materialreinigung und physikalisch-chemische Analyse verwendet |
| Feine Chemie und neue Materialien | Natte Synthese- und Säure-Bekürzungspflanzungsbehälter für hochreine Rohstoffe; verhindert das Doping von Metallverunreinigungen, um die Reinheit des Endprodukts zu gewährleisten |
| Halbleiterindustrie | Reagenzdestillationsbehälter für die elektronische Destillation und die Vorbehandlung von Vormaterialien; erfüllt die Anforderungen an die ultrareine Herstellung elektronischer Materialien |
| Umweltprüfungen | Hochtemperaturverbrennungszelle zur Vorverarbeitung von Abgas- und Flüssigproben; korrosionsbeständig gegen aggressive Verbrennungsreagenzien |
Wettbewerbsvorteile
gegen Borosilikatglasinstrument:Widerstandsfähig gegen Fluorwasserstoff und Dauerbetrieb bei 1100°C und 500°C; hervorragende Wärmeschlagfestigkeit verhindert Risse bei schnellen Temperaturänderungen;Ultra-hohe Reinheit beseitigt Ionenniederschlag und Probenkontamination
Gegen PTFE/Teflon-Instrument:Geeignet für Anwendungen bei hohen Temperaturen, bei denen PTFE über 260 °C weich wird; durchsichtige Wand ermöglicht die visuelle Überwachung des Prozesses; starre Struktur gewährleistet die Dimensionsstabilität bei thermischem Zyklus
Spezifikationen
| Parameter | Wert |
|---|---|
| Material | Hochreines geschmolzenes Silizium (SiO2 > 99,99%) |
| Abmessungen | 36 mm x 32 mm x 580 mm |
| Maximale Betriebstemperatur | 1100°C |
| Chemische Resistenz | HF, starke Säure und Alkali, organische Lösungsmittel |
| Wärmeschlagfestigkeit | Ausgezeichnet, niedrige CTE 5,5 x 10^-7 /°C |
| Übertragbarkeit | UV-sichtbarer Bereich |
| Reinheit | Keine Niederschlagung von Metallionen |
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