-
Optisches Quarzglas
-
Bearbeitung von Quarzglas
-
Quarz-Glasrohr
-
Kapillarrohr aus Quarz
-
Borosilikatglasrohr
-
Stab aus Quarzglas
-
Laser-Ersatzteile
-
Siliziumdioxid-Sputtering-Target
-
Quarzapparat
-
Quarz-Glasplatte
-
Kundenspezifische Glasteile
-
Kundenspezifische Keramikteile
-
Optische Herstellungs-Ausrüstung
-
Beweglicher Glasdeckel, der Maschine herstellt
-
Optisches Messgerät
-
Optischer Kristall
High Purity Fused Silica Quartz Boat Custom Glass Parts Integral Forming für Halbleiter Aufbrühen Tray
| Material | Hochreines Quarzglas (SiO2 > 99,99 %) | Bildungsprozess | Integrale Warmumformung |
|---|---|---|---|
| Maximale Betriebstemperatur | 1100°C | Chemische Beständigkeit | HF, starke Säuren und Laugen, organische Lösungsmittel |
| Wärmeausdehnung | WAK 5,5 x 10^-7 /°C (Niedrig) | Oberflächenbeschaffenheit | Feinpolierte, glatte Kanten |
| Reinheit | Keine Metallionenausfällung | Anwendung | Rohrofensintern, Halbleiterglühen, Laborveraschung, Forschung und Entwicklung neuer Materialien |
| Hervorheben | Hochreines geschmolzenes Siliziumboot,Integral geformtes Quarzboot,Quarz-Boot für Halbleiterbrennschacht |
||
Produktübersicht
DerBoot aus hochreinem Quarzglasist ein präzisionsgeformter Hochtemperaturträger, der für das Sintern in Rohröfen, die Halbleiterverarbeitung und thermische Laboranwendungen entwickelt wurde. Es wird durch integrierte Warmumformung für gleichmäßige Wandstärken und feinpolierte Oberflächen hergestellt und bietet eine hervorragende thermische Stabilität bis 1100 °C, eine hervorragende chemische Beständigkeit gegenüber Flusssäure und konzentrierten korrosiven Reagenzien sowie keine Ausfällung von Verunreinigungen – und gewährleistet so eine kontaminationsfreie Verarbeitung für die anspruchsvollsten Industrie- und Forschungsumgebungen.
Hauptmerkmale
- Integrale Warmumformung:Die einteilige Konstruktion gewährleistet eine gleichmäßige Wandstärke, strukturelle Integrität und eliminiert schwache Verbindungen oder Nähte
- 1100 °C hohe Temperaturbeständigkeit:Behält Dimensionsstabilität und mechanische Festigkeit bei längerem Hochtemperaturbetrieb in Rohröfen
- HF- und starke Chemikalienbeständigkeit:Hervorragende chemische Beständigkeit gegen Flusssäure, konzentrierte Säuren, starke Laugen und organische Lösungsmittel
- Ausgezeichnete Thermoschockstabilität:Der niedrige Wärmeausdehnungskoeffizient (WAK 5,5 x 10^-7/°C) verhindert Risse bei schnellen Aufheiz- und Abkühlzyklen
- Niederschlag ohne Verunreinigungen:SiO2 > 99,99 % Reinheit garantiert keine Metallionenauswaschung und schützt so die Wafer- und Probenintegrität
- Präzisionsfinish:Feinpolierte Oberfläche mit standardisierten Abmessungen, glatten Kanten und ohne Absplitterungen für eine sichere Probenhandhabung
Anwendungen
| Industrie | Anwendung |
|---|---|
| Sintern im Rohrofen | Träger für die Hochtemperaturkalzinierung von Pulvern, Wafern und Keramiksubstraten in Röhrenöfen mit kontrollierter Atmosphäre |
| Halbleiterverarbeitung | Hochtemperatur-Vorbehandlungswanne zum Glühen und Vorbeschichten von Wafern sorgt für ultrareine, kontaminationsfreie Bedingungen |
| Labortests | Veraschungsexperiment und korrosiver Tauchprobenbehälter für die analytische Chemie und Materialcharakterisierung |
| Forschung und Entwicklung neuer Materialien | Pulversynthese- und Vorläufer-Wärmebehandlungsbehälter für die fortschrittliche Materialentwicklung |
Wettbewerbsvorteile
vs. Borosilikatglasschiffchen:Borosilikatglas verträgt Flusssäure nicht und wird bei hohen Temperaturen weich; Dieses Quarzboot widersteht starker Korrosion und behält seine mechanische Integrität durch wiederholte Temperaturwechsel bei 1100 °C ohne Verformung oder Rissbildung
vs. Aluminiumoxid/Keramikboot:Überlegene Thermoschockbeständigkeit ermöglicht schnelles Aufheizen und Abkühlen; transparente Wand ermöglicht visuelle Prozessüberwachung; Keine Metallverunreinigung eliminiert das Risiko einer Kontamination von Wafern und Proben
Spezifikationen
| Parameter | Wert |
|---|---|
| Material | Hochreines Quarzglas (SiO2 > 99,99 %) |
| Umformprozess | Integrale Warmumformung |
| Maximale Betriebstemperatur | 1100°C |
| Chemische Beständigkeit | HF, starke Säuren und Laugen, organische Lösungsmittel |
| Wärmeausdehnung | WAK 5,5 x 10^-7 /°C (Niedrig) |
| Oberflächenbeschaffenheit | Feinpolierte, glatte Kanten |
| Reinheit | Keine Metallionenausfällung |

