-
Optisches Quarzglas
-
Bearbeitung von Quarzglas
-
Quarz-Glasrohr
-
Kapillarrohr aus Quarz
-
Borosilikatglasrohr
-
Stab aus Quarzglas
-
Laser-Ersatzteile
-
Siliziumdioxid-Sputtering-Target
-
Quarzapparat
-
Quarz-Glasplatte
-
Kundenspezifische Glasteile
-
Kundenspezifische Keramikteile
-
Optische Herstellungs-Ausrüstung
-
Beweglicher Glasdeckel, der Maschine herstellt
-
Optisches Messgerät
-
Optischer Kristall
Hochreine Präzisions-Quarzbohrdüse für die Halbleiter- und PV-Mikroelektronik
| Material | Quarz von hoher Reinheit | Außendurchmesser | Φ10mm |
|---|---|---|---|
| Innerer Lochdurchmesser | Φ0.5mm | Gesamtlänge | 2mm |
| Temperaturbereich | 200℃~1100℃ | ||
| Hervorheben | Quarzdüsen mit hoher Reinheit,Quarzdüsen für die Präzisionsbohrung,mit einer Breite von mehr als 10 mm |
||
Produktname: Hochreine Präzisions-Quarz-Düse
Abmessungen: Außendurchmesser Φ10mm * Innendurchmesser Φ0.5mm * Gesamtlänge 2mm
Diese Düse wird aus hochreinem Quarz mit Präzisionsbohrung integral bearbeitet. Sie zeichnet sich durch hohe Temperaturbeständigkeit, Beständigkeit gegen starke Säuren und Laugen, keine Ausfällung von Metallionen, glatte Innenwand gegen Verstopfung und hohe Verschleißfestigkeit aus. Weit verbreitet in der Waferreinigung, Laboratomisierung, Sprühanwendung von Feinchemikalien, Beschichtung von neuen Energiematerialien, Umweltsprühnebel von Mikro-Gas-Flüssigkeit und anderen Arbeitsbedingungen. Detaillierte Szenarien sind wie folgt:
Halbleiter und PV-Mikroelektronik
Wafer-Sprühen und -Reinigung mit hochreiner chemischer Flüssigkeitszerstäubung, geeignet für Flusssäure und hochreine Ätzreinigungslösungen. Quarz reagiert nicht mit korrosiven Flüssigkeiten, keine Schwermetallkontamination oder Lochfraß auf der Waferoberfläche, um die Chipausbeute zu gewährleisten. Präzise Aufteilung von hochreinem elektronischem Trägergas Mikro-Aufteilungs- und Spüldüse für Inertgase wie Stickstoff und Argon. Kleine Bohrung liefert gleichmäßigen feinen Luftstrom für Kammerreinigung und gleichmäßige Vorläuferzuführung.
Laborchemie und Mikro-Atomisierungsexperimente
Mikro-Reagenz-Zerstäubung und Gasproben-Ausstoß Zerstäubungsreaktion von Spuren von Säure-Base-Reagenzien und Trägergasableitung für Gaschromatographie. Kleine Bohrung erzeugt gleichmäßigen feinen Nebel, um die Gas-Flüssigkeits-Kontakt-Effizienz für Katalyse-, Absorptions- und Mikrodetektionstests zu erhöhen. Hochtemperatur-Atmosphärenreinigung und Staubentfernung von Proben Inertgasreinigung für Röhrenöfen und Reaktionskammern, hält stabil 200~1100℃ ohne Rissbildung bei thermischem Schock stand.
Lithiumbatterie-Neue Materialien und Feinchemikalien
Zerstäubungssynthese von hochreinen Rohstoffen Zerstäubungsdüse für Lithiumbatterie-Vorläufer und ultra-hoch-reine chemische Salzlösungen. Widersteht langfristigem Spülen mit HF und konzentrierter Lauge, glatte Innenwand verhindert Kristallverstopfung für kontinuierliche stabile Zerstäubung. Sprühpuffer für stark korrosive Prozesse Spezielle Sprühkopf für Beiz- und alkalische Waschproduktionslinien. Ersetzt Metall- und Borosilikatdüsen ohne Rost oder Ionenverlust, um die Lebensdauer zu verlängern.
Umweltüberwachung und spezielle Hochtemperatur-Zerstäubung
Zerstäubung und Absorption für die Probenahme von Abgasen in Spuren Unterstützende Zerstäubungskomponente für die Prüfung von Umweltverschmutzung. Zerlegt die Absorptionsflüssigkeit in feinen Nebel, um Spuren von Schadstoffen vollständig zu erfassen und die Nachweisgenauigkeit zu verbessern. Kontinuierliche Hochtemperatur-Sprühanwendung Geeignet für Hochtemperatur-Vergasungs- und Heißsprühprozesse. Stabil in einem breiten Temperaturbereich, verschleißfest gegen langfristiges Hochfrequenz-Spülen mit unveränderter Bohrungsgröße.
Kernvorteile (vs. Metall- und Borosilikatglasdüsen)Hervorragende Korrosionsbeständigkeit: Widersteht langfristigem Spülen mit Flusssäure, konzentrierter starker Säure und Lauge. Metallische Düsen rosten tendenziell, während Borosilikatglas in HF-Umgebungen versagt.
Breiter Hochtemperaturbereich: Stabile Dauerbetrieb bei 200–1100℃, hervorragende thermische Schockbeständigkeit gegen plötzliche Kälte-Wärme-Wechsel ohne Rissbildung.
Ultra-geringe Verunreinigungsabgabe: Integrierter hochreiner Quarz ohne Schwermetallauflösung, frei von Kontamination für Wafer, hochreine Reagenzien und elektronische Gasquellen.
Glatte Innenwand gegen Verstopfung: Präzisionspolierte Bohrung verhindert Anhaften von Kristallen und Partikeln, um Ausfallzeiten durch Wartung zu reduzieren.
Hohe Härte und Erosionsbeständigkeit: Hohe Mohs-Härte vermeidet Bohrungserweiterung durch langfristiges Hochgeschwindigkeits-Flüssigkeits-/Gas-Spülen, wodurch eine stabile Maßhaltigkeit erhalten bleibt.
Präzise Mikroflussbohrung: 0,5 mm präzises winziges Loch liefert gleichmäßigen stabilen Flüssigkeits-/Gasfluss für genaue Mikrozerstäubung und Durchflussregelung.

