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Hochreine, korrosionsbeständige Quarzkathode mit mattierter Oberfläche in Sondergröße
| Herkunftsort | China |
|---|---|
| Markenname | ZKTD |
| Zertifizierung | SGS ISO |
| Modellnummer | Quarzkathode |
| Min Bestellmenge | 1 |
| Preis | negotiable |
| Lieferzeit | 5-8 Werktage |
| Zahlungsbedingungen | L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, |
Produktdetails
| Material | Quarz von hoher Reinheit | Abmessungen | 95 mm × 91 mm × 44,5 mm |
|---|---|---|---|
| Oberfläche | Mattiert (einseitig/doppelseitig) | Temperaturbereich | 200℃~1100℃ |
| Hervorheben | Frostige Oberflächenquarzkathode,Quarzkathode mit hoher Reinheit,Anti-Korrosionsquarzkathode |
||
Produkt-Beschreibung
Quarz-Kathode mit mattierter Oberfläche Grundlegende Produktinformationen
Produktname: Hochreine mattierte Quarz-Kathode mit hoher Temperatur- und Korrosionsbeständigkeit
Abmessungen: 95mm*91mm*44,5mm
Integral aus hochreinem Quarz mit feiner ein-/zweiseitiger Mattierung verarbeitet. Sie zeichnet sich durch hohe Temperaturbeständigkeit, starke Korrosionsbeständigkeit, keine Metallabscheidung, ausgezeichnete Isolierung und gleichmäßige diffuse Lichtdurchlässigkeit aus. Weit verbreitet in Beschichtungs-, Vakuum-Sputter-, Elektrochemie-, Laborplasma- und Halbleiter-Optoelektronik-Prozessen:
Laborchemie und Elektrochemie
Kathodenpassstück für Plasma-Reaktionskammern: Isolierende Kathodenbasis in Vakuum-Plasmareinigungs- und Ionenätzgeräten. Die mattierte Oberfläche verteilt den Plasmastrahl gleichmäßig, um die Reaktionsgleichmäßigkeit zu verbessern.
Träger für korrosive elektrochemische Tests: Isolierende Halterung für Elektrolyseexperimente mit sauren, alkalischen und fluorhaltigen Elektrolyten, isoliert Verunreinigungen von Metallelektroden, um eine Kontamination des Elektrolyten zu verhindern.
Halbleiter und PV-Mikroelektronik (Kernanwendung)
Quarz-Kathodenhalterung für Sputter- und PVD-Beschichtungen: Trägt Metalltargets und Wafer-Substrate. Die mattierte Oberfläche schwächt lokale Lichtbogenentladungen ab, um die Beschichtungsgleichmäßigkeit zu stabilisieren. Hochreines Material vermeidet Metallionenabscheidung und Filmdefekte.
Isolierende Kathodenkomponenten in Vakuumkammern für die Herstellung von optoelektronischen Chips und Dünnschichtbauelementen, passend zu Ultrareinen Elektronikfertigungsstandards.
Neue Materialien und Dünnschicht-Feinchemikalien
Kathodenhalterungs-Vorrichtung für die Abscheidung von Funktionsfilmen und Nano-Beschichtungen, nicht verformbar und schadstofffrei unter Hochtemperatur-Vakuum-Bedingungen.
Isolierende Basis von Plasma-Reaktionstanks für die Herstellung von leitfähigen Filmen und katalytischen Filmen für Lithiumbatterien, beständig gegen korrosive Dämpfe von Vorläufern.
Vakuum-Optoelektronische spezielle Testbedingungen
Kathodenbasis passend zu UV-Plasma-Lichtquellen; mattierter Quarz diffundiert UV-Licht gleichmäßig, um die Lichtausbeute zu stabilisieren.
Kontinuierlicher Betrieb bei 200~1100℃ unter Vakuum, geeignet für Hochtemperatur-Ionenaktivierung und Hochtemperatur-Dampfabscheidungsprozesse.
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