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Konischer Hohlraum aus glattem Quarzglassubstrat für die optische Probenanalyse

  • Smooth Fused Quartz Substrate Conical Cavity For Optical Sample Analysis
  • Smooth Fused Quartz Substrate Conical Cavity For Optical Sample Analysis
Produktdetails
Material Hochreines Quarzglas (SiO2 > 99,99 %) Grundabmessungen 2mm x 2mm
Hohlraumtyp Konische konische Grube in der Mitte Maximale Betriebstemperatur 1100°C
Chemische Beständigkeit HF, starke Säuren und Laugen, organische Lösungsmittel Wärmeausdehnung WAK 5,5 x 10^-7 /°C (Niedrig)
Oberflächenbeschaffenheit Präzise bearbeitet, glatt und splitterfrei Reinheit Keine Metallionenausfällung
Anwendung Optischer Mikroprobenhalter, Halbleiter-Positionierungsbasis, Mikroreagenzzelle
Hervorheben

Glatte Quarzsubstrate

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Quarzsubstrate mit konischer Kavität

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Quarzsubstrate
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Produkt-Beschreibung

Produktübersicht

DieQuarz-Substrat mit kegelförmigen Hohlräumen(Basis 2 mm x 2 mm mit zentralen, spitzen Gruben) ist eine hochpräzise optische Quarzkomponente, die für die Positionierung von Mikrosampeln, optische Tests und Halbleiterversuche entwickelt wurde.Präzisionsbearbeitung aus hochreinem geschmolzenem Silizium (SiO2 > 99.99%) mit einer glatten, spaltfreien Kegelhöhle bietet eine außergewöhnliche Wärmestabilität bis 1100°C, eine hervorragende chemische Beständigkeit gegen HF und aggressive Reagenzien,und keine Ionenlaugung, was sie zur idealen Plattform für die anspruchsvollsten Mikroskala-optischen und Halbleiteranwendungen macht.

Wesentliche Merkmale

  • Präzisionskonische Kavität:Mitten verjüngte Grube mit glatter, spaltfreier Oberfläche zur sicheren Platzierung und Positionierung von Mikrosampeln
  • Widerstandsfähigkeit bei hohen Temperaturen:Beibehält die Dimensionsstabilität und die Oberflächenqualität unter extremen thermischen Bedingungen ohne Verformung
  • HF- und starke chemische Beständigkeit:Nicht von Fluorwassersäure, konzentrierten Säuren, starken Alkalien und organischen Lösungsmitteln betroffen
  • Niedrige thermische Ausdehnung:CTE 5,5 x 10^-7/°C sorgt für stabile Abmessungen und Hohlraumgeometrie in weiten Temperaturbereichen
  • Hohe Reinheit und Null Ionenlaugung:SiO2 > 99,99% ohne Niederschlag von Metallionen, was eine Kontamination der Probe verhindert
  • Präzisionsbearbeitung:Feingelegte Oberfläche mit exakten Abmessungstoleranzen für eine wiederholbare optische Ausrichtung

Anwendungen

IndustrieAnwendung
Optische ProbenprüfungFestpunkthalter für Mikropartikel- und Pulverproben mit transparenter Basis, mit der die Lichtübertragung erkannt und spektroskopisch analysiert werden kann
HalbleiterversuchePositionierungs- und Ausrichtungsanlage für Mikrokomponenten mit einer Präzisionshöhle, die die Bewegung während der Prüfung einschränkt
Mikrokemische PrüfungenNanoliter-Reagenzzelle mit kegelförmiger Vertiefung für chemische Reaktionen im Mikrovolumen und Analysen unter dem Mikroskop

Wettbewerbsvorteile

Gegen Kunststoff/Polymer-Substrat:Kunststoffe schwellen und zerfallen in organischen Lösungsmitteln und können hohen Temperaturen nicht standhalten.und kann ohne Abbau wiederholt gereinigt und wiederverwendet werden

Gegen Borosilikatglas-Substrat:Borosilikatglas erweicht bei 500 °C und wird von HF angegriffen; Quarzsubstrat bei 1100 °C bleibt intakt und ist vollständig resistent gegen Fluorwassersäure und alle ätzenden Medien

Spezifikationen

ParameterWert
MaterialHochreines geschmolzenes Silizium (SiO2 > 99,99%)
Grundabmessungen2 mm x 2 mm
HohlraumartZentrum konische spitze Grube
Maximale Betriebstemperatur1100°C
Chemische ResistenzHF, starke Säure und Alkali, organische Lösungsmittel
Thermische AusdehnungCTE 5,5 x 10^-7 /°C (niedrig)
OberflächenbearbeitungPräzisionsbearbeitet, glatt und ohne Splitter
ReinheitKeine Niederschlagung von Metallionen
Umbauten:

Optische UV-Quarzglasscheiben

klare Quarzglasscheiben

dunkelrotes optisches Filterglasrohr