65x2,9x2mm Saphir Substrat Präzisionspolierte Laserausrüstung Trägerbasis

Herkunftsort China
Min Bestellmenge 10 Stück
Verpackung Informationen Wellpappkarton in Exportqualität mit Schaumstoffschutz
Lieferzeit 7–15 Werktage
Zahlungsbedingungen T/T, PayPal, Western Union
Produktdetails
Dimension 65 x 2,9 x 2 mm Material Einkristall-Saphir (Aluminiumoxid)
Oberflächenbeschaffenheit Präzisionsgeschliffen und poliert Toleranz Feste Maßtoleranz
Isolierung Tolle Isolierleistung Anpassung Ein-/beidseitiges Polieren, Schlitzen, Bohren, Beschichten
Hervorheben

Saphir-Substrat 65x2

,

9x2mm

,

Laserausrüstungsträger

Hinterlass eine Nachricht
Produkt-Beschreibung
Saphir-Substrat 65x2,9x2mm Präzisionspoliert Trägerbasis für Lasergeräte
Produktname

Das Saphir-Substrat ist eine präzisionsgeschliffene Dünnstreifenkomponente mit einer Abmessung von 65 x 2,9 x 2 mm, hergestellt aus Einkristallsaphir für anspruchsvolle optische und Laseranwendungen. Das Substrat ist präzisionsgeschliffen und poliert auf enge Maßtoleranzen, wodurch eine ebene, saubere Oberfläche für die Montage von optischen Elementen und Laserkomponenten entsteht. Ohne Ausscheidungen bei langfristigem Hochtemperatureinsatz und mit ausgezeichneter Isolationsleistung behält das Substrat seine Reinheit und Stabilität unter extremen Betriebsbedingungen. Seine mechanische Festigkeit und Verschleißfestigkeit sind denen von Quarzglas weit überlegen, was es zu einer langlebigen Wahl für Instrumentenfenster, Sensorbasen und Trägerbasen für Lasergeräte macht.

Spezifikation
ParameterSpezifikation
Abmessung65 x 2,9 x 2 mm
MaterialEinkristallsaphir (Aluminiumoxid)
OberflächengütePräzisionsgeschliffen und poliert
ToleranzEnge Maßtoleranzen
IsolationHervorragende Isolationsleistung
IndividualisierungEinseitige/beidseitige Politur, Schlitzen, Bohren, Beschichten
Kernmerkmale
  • Präzisionsgeschliffener und polierter Dünnstreifen: Der lange, dünne Rohling ist mit hoher Oberflächenqualität und Ebenheit für die optische Montage fertiggestellt.
  • Enge Maßtoleranzen: Länge, Breite und Dicke werden innerhalb enger Grenzen kontrolliert für eine zuverlässige Montage.
  • Keine Ausscheidungen bei langfristiger Hochtemperaturbeanspruchung: Das reine Saphirmaterial gibt bei Hochtemperatureinsatz keine Verunreinigungen ab.
  • Hervorragende Isolationsleistung: Ausgezeichnete elektrische Isolation unterstützt den Einsatz in empfindlichen elektronischen und optischen Systemen.
  • Höhere mechanische Festigkeit und Verschleißfestigkeit als Quarzglas: Das robuste Substrat widersteht Stößen, Verschleiß und Transportschäden.
  • Anpassbare Bearbeitung: Einseitige oder beidseitige Politur, Schlitzen, Bohren und Beschichten können nach Bedarf angepasst werden.
Anwendung

Das Saphir-Substrat ist für optische, Laser- und Sensorsysteme konzipiert, die eine starke, stabile und präzise dimensionierte Plattform benötigen. Es wird häufig als Präzisionsfenster für optische Instrumente verwendet und bietet eine langlebige, transparente Öffnung für die Lichtdurchleitung. In Lasersystemen dient das Substrat als Trägersubstrat für Lasergeräte und unterstützt Komponenten mit ausgezeichneter thermischer und mechanischer Stabilität. Die Komponente wird auch als Inspektionssichtplatte für hohe Temperaturen eingesetzt, die die Beobachtung von Prozessen bei erhöhten Temperaturen ermöglicht. In Sensorsystemen fungiert es als lichtdurchlässiges Substrat für Sensoren und kombiniert optische Klarheit mit elektrischer Isolation. Darüber hinaus wird das Substrat als optisches Bauteil für Spektralanalysatoren verwendet und liefert konsistente Leistung über verschiedene Chargen hinweg.

Vorteile
  • Präzisionsschleifen und -polieren für Dünnstreifenrohlinge: Enge Maßtoleranzen gewährleisten eine genaue Passform in Präzisionsbaugruppen.
  • Keine Ausscheidungen und hervorragende Isolation: Langfristiger Hochtemperatureinsatz hält das Substrat rein und elektrisch sicher.
  • Überlegene mechanische Festigkeit und Verschleißfestigkeit: Weit stärker als Quarzglas, widersteht das Substrat Kratzern und Stößen.
  • Vollständige Individualisierung: Polier-, Schlitz-, Bohr- und Beschichtungsprozesse sind verfügbar, um den Anwendungsanforderungen gerecht zu werden.
  • Konsistente optische Leistung in der Massenproduktion: Chargenuniformität liefert wiederholbare Ergebnisse für Volumenanwendungen.