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Einkristall-Aluminiumoxid-Saphir-Blatt, hochrein, präzisionspoliert, Sondergröße
| Material | Einkristallines Aluminiumoxid (α-Al₂O₃) | Härte | 9 Mohs |
|---|---|---|---|
| Schmelzpunkt | 2040℃ | Transmission | 0,15 μm – 5,5 μm |
| Anwendung | Halbleiter, Optik, Medizin, Luft- und Raumfahrt | ||
| Hervorheben | Einkristall-Aluminiumoxid-Saphirplatte,Hochreine Saphirplatte,Präzisionspolierte Saphirplatte |
||
Produktname: Einkristall-Aluminiumoxid-Saphirplatte mit hoher Härte und hoher Temperaturbeständigkeit
Abmessungen: Standard- oder spezielle unregelmäßige Größen, kundenspezifisch nach Anforderungen
Präzisionspoliert aus hochreinem Einkristall-Aluminiumoxid (α-Al₂O₃). Es zeichnet sich durch eine Mohs-Härte von 9, einen Schmelzpunkt von bis zu 2040℃, eine breite Spektrum-Hochdurchlässigkeit, starke Säure- und Alkalibeständigkeit, ausgezeichnete Isolations- und Wärmeleitfähigkeit sowie überlegene chemische Inertheit aus. Weit verbreitet in der Halbleiter-Optoelektronik, optischen Prüfung, Hochtemperatur-Laborexperimenten, medizinischen Behandlung, Luft- und Raumfahrt sowie Präzisionssensoren:
Laborchemie und Präzisionsprüfung
Halbleiter, LED und Mikroelektronik (Kernanwendung)
Optoelektronik, Präzisionsoptik und Sensoren
Medizin, Luft- und Raumfahrt und spezielle Arbeitsbedingungen
Kernproduktvorteile (im Vergleich zu Quarz, optischem Glas und Keramikplatten)1. Ultrahohe Härte und Verschleißfestigkeit: Mohs-Härte 9, zweitbester nach Diamant, beständig gegen Langzeitreibung und Stauberosion mit stark verlängerter Lebensdauer für Schutzkomponenten.
2. Ultrahohe Temperaturbeständigkeit: Schmelzpunkt 2040℃, stabiler Dauerbetrieb bei 1500℃, bessere Wärmeleitfähigkeit als Quarz für überlegene Wärmeableitung und herausragende thermische Schockbeständigkeit.
3. Extreme chemische Inertheit: Beständig gegen alle starken Säuren, starken Laugen und Flusssäure sowie Plasmaerosion; keine Metallionen-Ausfällung ohne Kontaminationsrisiko für die Hochreinfertigung.
4. Vollspektrum-Hochdurchlässigkeit: Kontinuierliche hohe Lichtdurchlässigkeit von 0,15 μm tiefem UV bis 5,5 μm mittlerem Infrarot, die alle UV-, sichtbaren und infraroten optischen Prüfszenarien abdeckt.
5. Hohe Isolations- und Wärmeleitfähigkeit: Ausgezeichnete elektrische Isolierung für Hochspannungs-, HF- und Plasmakammern; bessere Wärmeleitung als Quarz zur Stabilisierung der Wärmeableitung von Hochleistungsgeräten.
6. Langzeit-Dimensionsstabilität: Nahezu keine Verformung bei hohen Temperaturen, gleichmäßige Kristallstruktur und hohe polierte Ebenheit, ideal für hochpräzise Epitaxie und optische Kalibrierung.

