D265 Borosilikat-optisches Glas Trägerplattform Geringe Autofluoreszenz Hohe Ebenheit Chemikalienbeständig

1. Grundlegende Produktinformationen

Produktbezeichnung: D265 Low Autofluorescence High Flatness Borosilicate Glass Carrier Platform Basismaterial: hohe hydrolytische Beständigkeit D265 Borosilicate optisches Glas Verarbeitungstechnologie:mit einer Breite von nicht mehr als 50 mm, Präzisionsschleifende Schamferung, ultra-saubere Reinigung Standardoptional Größen: Maßgeschneiderte Quadrat- oder runde Formen; Standarddicke 0,17-1,2 mm, Flachheit ≤2 μm, TTV Gesamtdickenvariation ≤1 μm

2. Hauptanwendungen

Präzisions-monolithisch bearbeitet aus speziellem D265 Borosilikatglas mit geringer Alkalidioxiddichte, verfügt dieser Träger über ultra-niedrige Autofluoreszenz, hohe Lichtdurchlässigkeit, Säure- und Alkalibeständigkeit,geringe thermische Ausdehnung und überlegene FlachheitEs wird häufig als Trägersubstrat für mikroskopische Beobachtungen, Halbleitervorbindungen, biologische Prüfungen, optische Lithographie und Präzisionslaborgeräte verwendet.

3Hauptvorteile (gegenüber üblichen Borosilikat-/Floatglasträgern)

Ultra-niedrige Autofluoreszenz: Die D265-Formel mit niedrigem Alkaligehalt minimiert die Hintergrundfluoreszenz und beseitigt die Störungen durch Streulicht für die Fluoreszenzmikroskopie; Überlegene chemische Stabilität:Hochgradige hydrolytische Beständigkeit widersteht langfristiger Erosion organischer Lösungsmittel, schwache Säuren und Alkalien mit null Ionenaufkommen; geringe thermische Expansion und thermische Stabilität: CTE mit Siliziumwafern abgestimmt,mit einer Breite von mehr als 20 mm,; Ausgezeichnete optische Durchlässigkeit: Hohe UV- und sichtbare Lichtübertragung ohne chromatische Aberration, kompatibel mit optischen Beobachtungs-, Laser- und UV-Entbindungsprozessen; Ultrapräzise Flachheit:Doppelseitiges Hochpräzisionspolieren mit streng kontrollierter Flachheit und Dicke, die auf Mikronebene die Anforderungen an die Präzision von Halbleitern und Präzisionsoptik erfüllen;Niedriger Alkaligehalt verhindert Zellschäden und Kontamination von Wafern/Reagenzien hoher Reinheit, perfekt für hochreine Fertigungsprozesse.