Einseitig polierte Quarzplatte 200x250x6mm hohe Reinheit für Halbleiter Waferträger

Einseitig polierte Quarzplatte 200x250x6mm

Diese einseitig polierte Quarzplatte, mit einer Größe von 200x250x6 mm, verfügt über eine präzise optisch polierte Oberfläche mit der gegenüberliegenden Seite links für eine stabile Positionierung.Hergestellt aus hochreinem Quarz, bietet eine Wärmebeständigkeit von 1100°C und eine überlegene chemische Haltbarkeit, ideal für Halbleiterwaferträger, optische Experimentsubstrate,Vakuumbeschichtungsanlagen und Laborwerkzeuge für hohe Temperaturen.

Produktparameter

Wesentliche Merkmale

• Einseitig optisch poliertEine Oberfläche mit präzisem Spiegelpolering für eine hervorragende Lichtdurchlässigkeit und optische Klarheit, während die Bodenrückseite eine stabile Positionierung und Montage bietet.
• 1100°C Wärmebeständigkeit- Beibehalten Strukturintegrität und Dimensionsstabilität bei anhaltend hohen Temperaturen ohne Verformung, ideal für die Verarbeitung von Halbleiterwafern und Diffusionsarbeiten.
• HF- und starke chemische Beständigkeit- Überlegender als Borosilikatglas, widerstandsfähig gegen Fluorwasserstoffsäure und konzentrierte Säuren/Alkalien in anspruchsvollen Umgebungen für Halbleiter und chemische Verarbeitung.
• Hohe Reinheit, keine Verunreinigung- 99,99% reiner Quarz mit null Metallverunreinigungen, was die Kontamination von Wafer und Proben bei der Herstellung von Halbleitern mit hoher Reinheit verhindert.
• Niedrige thermische Expansion• Eine ausgezeichnete Wärmeschlagfestigkeit verhindert bei schnellen Temperaturkreisläufen Risse und sorgt für eine zuverlässige Langzeitleistung bei zyklischen Heizanwendungen.

Anwendungen

1. Halbleiter- und Photovoltaikindustrie

Waferträgerplatte für Splitterbeschichtungs- und Diffusionsverfahren.Aufrechterhaltung der Dimensionsstabilität bei hohen Verarbeitungstemperaturen ohne Verlust von Verunreinigungen.

2. Optische Instrumentenindustrie

Referenzsubstrat für Spektrentests und Optikpfade-Festplatte. Die polierte Oberfläche sorgt für eine klare Lichtübertragung, während die nicht polierte Seite eine stabile Positionierung und Montage ermöglicht.

3. Präzisionsbeschichtung

Vakuumbeschichtungsanlage für die Optiklinsenablagerung, widerstandsfähig gegen hohe Kammertemperaturen und korrosive Prozessgase bei Dünnschichtbeschichtungen.

4Chemielabor.

Hochtemperatur-Sinterplatte und Korrosionsprobenträger, kompatibel mit HF und verschiedenen starken korrosiven Reagenzien für anspruchsvolle chemische Experimente.

Vorteile gegenüber Borosilikatglas

Im Gegensatz zu Borosilikatglasplatten, die von HF angegriffen werden und bei hohen Temperaturen erweichen, bietet diese einseitig polierte Quarzplatte vollen HF-Widerstand, einen anhaltenden Betrieb bei 1100 °C,Oberflächenabschluss in Spiegelform für eine hervorragende Lichtdurchlässigkeit, geringe thermische Ausdehnung für Rissbeständigkeit und hohe Reinheitskonstruktion für kontaminierungsfreie Halbleiter- und Präzisionsfertigungsumgebungen.