Präzisionsperforierte Quarzplatte, hochreine geschmolzenes Silizium, doppelseitig geerdet, zur Vakuumbeschichtung von Rohröfen

Präzisionsperforierte Quarzplatte, hochreines geschmolzenes Silizium

Diese präzise perforierte Quarzplatte besteht aus hochreinem geschmolzenem Silizium, mit doppelseitigem Feinschleifen, mit präzise gleichförmigen Löchern mit sauberen Kanten und ohne Splitter,Es bietet Wärmebeständigkeit bei 1100 °C und eine überlegene HF- und starke Säure/Alkali chemische Haltbarkeit. Ideal für Gasdiffusionsschütze für Rohröfen, Vakuumbeschichtungsvorrichtungen für Werkstücke, Halbleiter-Sinterträger und Filterplatten für chemische Labore.

Produktparameter

Wesentliche Merkmale

• Präzisionsperforierte LöcherEin einheitliches Lochmuster mit sauberen Kanten und ohne Splitter gewährleistet einen gleichbleibenden Gasfluss und eine zuverlässige mechanische Leistung.
• Doppelseitig feiner BodenBeide Oberflächen werden mit hoher Präzision geformt, um eine überlegene Flachheit und gleichmäßige Dicke zu gewährleisten, wodurch eine stabile Unterstützung des Werkstücks und eine stabile Gasverteilung gewährleistet werden.
• 1100°C Wärmebeständigkeit- Beibehält die Strukturintegrität und die Dimensionsstabilität bei anhaltendem Hochtemperaturbetrieb in Rohröfen und Sinteranwendungen
• HF- und starke chemische Beständigkeit- Überlegender als Borosilikatglas, widerstandsfähig gegen Fluorwasserstoffsäure und konzentrierte Säuren/Alkalien für chemische Verarbeitungsanwendungen.
• Hohe Reinheit, keine Verunreinigung- 99,99% reiner geschmolzener Kieselsäure mit null Verunreinigungen, was eine Kontamination der Proben in Halbleiter- und hochreinen Verfahren verhindert.

Anwendungen

1. Rohröfen-Gas-Baffler

Gasdurchlässige Trennplatte, die Pulvermaterialien unterstützt und gleichzeitig die schützende Gasflussverteilung in Rohröfenumgebungen für eine gleichmäßige Wärmebehandlung ausbalanciert.

2. Vakuumbeschichtungsanlage

Werkstückpositionierträger mit Durchlöchern, die die Zirkulation von Prozessgasen während der Vakuum-Dünnschichtablagerung ermöglichen und eine gleichmäßige Beschichtung gewährleisten.

3. Halbleiter Sinterträger

Gasdurchlässige Trägerplatte für das Sintern von Halbleitermaterialien, die eine Vergasung von Verunreinigungen und eine gleichmäßige Atmosphärenbelastung bei hoher Temperatur ermöglicht.

4. Filterplatte für chemische Labore

Korrosionsbeständiger Filterseparator und Reaktionsgasdurchlässige Trägerplatte für chemische Laboranwendungen mit aggressiven Reagenzien.

Vorteile gegenüber Borosilikatglas

Im Gegensatz zu perforierten Borosilikatglasplatten, die durch HF angegriffen werden und bei hohen Temperaturen erweichen, bietet diese geschmolzenen Siliziumplatte eine volle HF-Widerstandsfähigkeit, einen anhaltenden Betrieb bei 1100 °C,ausgezeichnete Wärmeschlagfestigkeit ohne Rissbildung, und hoher Reinheit bei null Kontamination, was es zur überlegenen Wahl für anspruchsvolle Anwendungen bei hohen Temperaturen, Korrosiven und hoher Reinheit macht.