Quarzbehälter mit reiner Quadratdicke für den Zinsbehälter mit hoher Temperatur

Hochreiner, quadratischer, dickwandiger Quarzbehälter, 160 x 160 x 80 mm

Dieser hochreine, quadratische, dickwandige Quarzbehälter verfügt über Innenabmessungen von 160 x 160 mm, 80 mm Höhe und eine robuste, gleichmäßige Wandstärke von 5 mm (außen: 170 x 170 x 80 mm). Hergestellt aus hochreinem Quarz mit integrierter Präzisionsverarbeitung, bietet es eine Hitzebeständigkeit von 1100 °C, eine hervorragende Beständigkeit gegen HF- und Säure-/Laugen-Chemikalien für Hochtemperatursinterung, nasschemische Verarbeitung und Anwendungen zur Reinigung von Halbleitermaterialien.

Produktparameter

Hauptmerkmale

• Einheitliche 5 mm dicke Wand– Präzise Verarbeitung mit durchgehend gleichmäßiger Wandstärke, die strukturelle Festigkeit und thermische Gleichmäßigkeit für Hochtemperaturanwendungen bietet.
• 1100 °C Hitzebeständigkeit– Behält Dimensionsstabilität und strukturelle Integrität bei kontinuierlich hohen Temperaturen ohne Verformung oder Rissbildung, ideal für Sinterprozesse.
• HF- und starke Säurebeständigkeit– Überlegene chemische Beständigkeit gegen Flusssäure und konzentrierte starke Säuren und Laugen, die von Borosilikatglas-Alternativen nicht erreicht werden kann.
• Hohe Reinheit, keine Kontamination– 99,99 % reiner Quarz sorgt dafür, dass keine Verunreinigungen ausfallen, die empfindliche Materialien während der Verarbeitung verunreinigen könnten.
• Ausgezeichnete Temperaturwechselbeständigkeit– Widersteht schnellen Temperaturwechseln ohne Rissbildung und ermöglicht so sichere Abschreck- und Heizzyklen in Labor- und Produktionsumgebungen.

Anwendungen

1. Hochtemperatursintern

Quadratischer Tank für das Sintern von Pulvermaterialien und Hochtemperatur-Festkörperreaktionen in der Produktion im Labor- und Pilotmaßstab, der einem dauerhaften Betrieb bei 1100 °C standhält.

2. Nasschemisches Beizen

Offenes quadratisches Gefäß für Nasssäurebeizen und Korrosionsproben-Tauchtests, beständig gegen HF und starke Säurelösungen, die Borosilikatglasbehälter angreifen würden.

3. Halbleitermaterialverarbeitung

Reaktionstank zur Reinigung kleiner Chargen von Rohstoffen für die Halbleiterfertigung, der eine kontaminationsfreie Eindämmung für hochreine chemische Prozesse bietet.

4. Vorrichtung zur Beschichtungsausrüstung

Interner Positionierungshohlraum und Werkzeughülse für Beschichtungsgeräte, die Dimensionsstabilität und chemische Inertheit in Vakuumbeschichtungsumgebungen bieten.

Vorteile gegenüber Borosilikatglas

Im Gegensatz zu Behältern aus Borosilikatglas, die durch Flusssäure angegriffen werden und unter thermischer Belastung reißen können, bietet dieser Quarzbehälter eine hervorragende HF-Beständigkeit, eine thermische Stabilität bei 1100 °C ohne Verformung und eine hohe Reinheit, die eine Materialkontamination verhindert – was ihn zur unverzichtbaren Wahl für anspruchsvolle chemische, Halbleiter- und Hochtemperaturverarbeitungsanwendungen macht.