-
Optisches Quarzglas
-
Bearbeitung von Quarzglas
-
Quarz-Glasrohr
-
Kapillarrohr aus Quarz
-
Borosilikatglasrohr
-
Stab aus Quarzglas
-
Laser-Ersatzteile
-
Siliziumdioxid-Sputtering-Target
-
Quarzapparat
-
Quarz-Glasplatte
-
Kundenspezifische Glasteile
-
Kundenspezifische Keramikteile
-
Optische Herstellungs-Ausrüstung
-
Beweglicher Glasdeckel, der Maschine herstellt
-
Optisches Messgerät
-
Optischer Kristall
Standardgröße Quarzglasblech Ultra hohe Fläche für 9 Zoll Wafer
| Material | Quarzglas | Kompatible Wafergröße | 9 Zoll |
|---|---|---|---|
| Ebenheit | ultrahohe Präzision | Toleranz | Feste Maßtoleranz |
| Oberflächenbeschaffenheit | Präzisionspoliert | Stresslevel | Geringer innerer Stress |
| Anwendung | Kalibrierung von Halbleiterwafern, Lithographie, Prober, optische Ausrüstung | ||
| Hervorheben | Standarddimensionale Quarzglasplatte,Ultra-Hochflächigkeit Quarz Glasblech,9 Zoll Wafer Quarz Glasplatte |
||
9-Zoll-Waferkalibrierungs-Quarzglasplatte mit extrem hoher Ebenheit
Diese 9-Zoll-Quarzglasplatte zur Waferkalibrierung ist ein hochpräziser Kalibrierungsstandard für Halbleitergeräte. Entwickelt mit extrem hoher Ebenheit und engen Maßtoleranzen entspricht es den standardmäßigen 9-Zoll-Waferspezifikationen für die tägliche Geräteüberprüfung in Lithographie-, Prober-, AOI-Inspektion- und optischen Messanwendungen.
Produktparameter
| Parameter | Spezifikation |
|---|---|
| Material | Quarzglas |
| Kompatible Wafergröße | 9 Zoll |
| Ebenheit | Ultrahohe Präzision |
| Maßtoleranz | Enge Toleranz |
| Oberflächenbeschaffenheit | Präzisionspoliert |
| Optische Eigenschaft | Gleichmäßig, wenig Stress |
| Thermische Stabilität | Minimale thermische Verformung |
| Chemische Beständigkeit | Beständig gegen regelmäßige chemische Reinigung |
| Dimensionsstabilität | Stabil für wiederholten Langzeitgebrauch |
Hauptmerkmale
- Ultrahohe Ebenheit– Präzise polierte Oberfläche mit extrem enger Ebenheitstoleranz, die zuverlässige Kalibrierungsergebnisse für Halbleitergeräte gewährleistet.
- Einheitliche optische Eigenschaft– Konsistente optische Übertragung über die gesamte Plattenoberfläche, ideal für die Kalibrierung von AOI- und visionbasierten Inspektionssystemen.
- Geringer innerer Stress– Minimale thermische Verformung und spannungsbedingte Verformung, wodurch die Dimensionsstabilität unter wechselnden Umgebungsbedingungen erhalten bleibt.
- Beständigkeit gegen chemische Reinigung– Beständig gegen herkömmliche Halbleiter-Reinigungslösungsmittel, wodurch die Oberflächenqualität auch nach wiederholten Reinigungszyklen erhalten bleibt.
- Langzeitstabilität– Spezieller Kalibrierungsstandard, der für den wiederholten täglichen Gebrauch entwickelt wurde, ohne dass die Präzision im Laufe der Zeit nachlässt.
Anwendungen
1. Inspektion von Halbleiterwafern
Master-Referenzplatte für die Prüfung von 9-Zoll-Waferabmessungen, Ebenheit und Verzug. Dient als täglicher Kalibrierungsstandard für optische Wafer-AOI-Inspektionsgeräte und vereinheitlicht die Erkennungsgenauigkeit über alle Produktionslinien hinweg.
2. Lithografie- und Verpackungsprozess
Ausrichtungs-Benchmark für Lithografiemaschinen und Die-Bonder. Durch die regelmäßige Kalibrierung des Objektivfokus und der Positionierungsgenauigkeit der Plattform werden Produktionsfehler reduziert und die Ertragskonsistenz verbessert.
3. Prober-Testgeräte
Referenzplatte für die Koordinatenkalibrierung der Prober-Station und die Ebenheitsüberprüfung der Plattform, um eine präzise Genauigkeit der elektrischen Prüfung von Wafern in der Halbleiterfertigung sicherzustellen.
4. Optische Laborkalibrierung
Standard-Kalibrierglas für optische Messgeräte und Konturtester, das zur routinemäßigen Überprüfung der Instrumentenpräzision in Messlabors verwendet wird.
Vorteile gegenüber gewöhnlichem Glas und herkömmlicher Quarzplatte
Im Gegensatz zu gewöhnlichen Glasplatten und herkömmlichen Quarzglasplatten verfügt diese Quarzglasplatte in Kalibrierungsqualität über präzisionspolierte Oberflächen mit streng kontrollierter Ebenheitstoleranz. Es weist eine minimale thermische Verformung auf und behält auch nach wiederholter chemischer Reinigung eine stabile Präzision bei – was es zu einem speziellen Industriestandard-Kalibrierungsteil macht, das speziell für Halbleiterproduktionsumgebungen entwickelt wurde.

