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Hochreine Quarz-Wafer-Reinigungsanlage Niedriges Hydroxyl hochtemperaturbeständig und wenige Mikroblasen

  • High Purity Quartz Wafer Cleaning Tank Low Hydroxyl High Temperature Resistance And Few Micro Bubbles
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Herkunftsort China
Markenname ZKTD
Zertifizierung ISO 9001, RoHs
Modellnummer ZKTD-T001
Min Bestellmenge 1 Stück
Preis 0.1 USD per pc
Verpackung Informationen Karton, Holzetui
Lieferzeit 5-8 Arbeitstage
Zahlungsbedingungen L/C, T/T
Versorgungsmaterial-Fähigkeit 1000 PCS pro Woche

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Produktdetails
Produktbezeichnung Waferreinigungsanlage mit hochreinem Quarz Wärmeschlagfestigkeit Ausgezeichnet.
Merkmal Korrosionsbeständigkeit, Widerstand der hohen Temperatur Material Hoher Reinheitsgrad Quarz
Farbe Transparent Abmessung Individualisiert
Betriebstemperatur C 1100
Hervorheben

Hochreine Quarz-Waferreinigungsanlage

,

Reinigungsanlage für Wafer mit niedrigem Hydroxylquarzgehalt

,

Hochtemperatur-Quarz-Waferreinigungstank
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Produkt-Beschreibung

Waferreinigungsanlage mit hochreinem Quarz

- hohe Reinheit, geringe Hydroxyldichte, hohe Temperaturbeständigkeit und wenige Mikroblasen

 

Wir können Quarz-Rechteck-/Quadratbehälter/runder Quarz-Tank in verschiedenen Größen und Formen nach Kundenanforderungen/Zeichnungen anpassen.

Merkmale: Säure- und Alkali-Korrosionsbeständigkeit, hohe Temperaturbeständigkeit, hohe Verarbeitungsgenauigkeit.

 

Hochreine Quarz-Wafer-Reinigungsanlage Niedriges Hydroxyl hochtemperaturbeständig und wenige Mikroblasen 0Hochreine Quarz-Wafer-Reinigungsanlage Niedriges Hydroxyl hochtemperaturbeständig und wenige Mikroblasen 1

 

 

 

Momente aus unserer Thermalwerkstatt:

Hochreine Quarz-Wafer-Reinigungsanlage Niedriges Hydroxyl hochtemperaturbeständig und wenige Mikroblasen 2

 

 

Für weitere Informationen kontaktieren Sie uns bitte unterVerkäufe.t@zktdoptics.com

 

Umbauten:

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