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Optisches Quarzglas
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Bearbeitung von Quarzglas
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Quarz-Glasrohr
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Stab aus Quarzglas
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Siliziumdioxid-Sputtering-Target
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Beweglicher Glasdeckel, der Maschine herstellt
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Optisches Messgerät
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Optischer Kristall
Hochflächigkeitsfusionssilikoplatte mit anpassbaren transparenten Frostlöchern bei 1100 °C
Transparenz: | Hoch |
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Lichtübertragung: | 92 Prozent |
Schmelzpunkt: | 1732℃ |
99,99% Spritzenziel des Siliciumdioxid-SiO2, das hohe chemische Oberflächenreinheit bereift
Produktname: | 99,99% Ziel Spritzenssio2 |
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Material: | Quarzglas |
Oberfläche: | Bereifen |